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在這項(xiàng)應(yīng)用中，作者創(chuàng)新性的使用低場核磁設(shè)備表征了分離膜的微觀結(jié)構(gòu)，這用傳統(tǒng)的XRD或者電鏡測試是無法實(shí)現(xiàn)的，低場核磁設(shè)備的應(yīng)用為深入理解二維膜材料的空間結(jié)構(gòu)提供了新的思路。